精密清洗设备的工业应用

发布时间：

2020-09-08

作者：GKVAC

精密清洁设备的主要目的是去除基材上的有机物和颗粒。大量的有机物和颗粒很容易附着在表面上。此时，必须通过强力清洁方法将其清除，每个过程之间的清洁重点是将附着的异物在镀膜前去除。为了实现上述清洁目的，清洁方法可以分为使用化学反应的化学清洁方法和使用机械力从基板去除异物的物理方法。精密清洁设备在工业中的应用越来越多。

为了强烈去除附着在基材上的大量有机物和颗粒，精密清洁设备经常使用碱性或中性清洁液。当使用碱性流体时，使用表面活性剂去除基材表面上的有机物。包含碱性成分，会腐蚀少量的基材表面，因此将清除附着的异物。用化学清洗液清洗的主要问题之一是需要使用大量的纯水冲洗掉清洗液中的表面活性剂和强碱成分。表面活性剂甚至具有有机废水处理和活性污泥处理的去除效率差的问题。精密清洁设备可以清洁具有复杂表面和特殊形状的各种物体。对小孔和缝隙具有良好的清洁效果。它对没有吸声或吸声系数低的物体具有最佳的清洁效果。这节省了劳动力并减少了环境污染。精密清洁设备使工业清洁更加容易。

光科真空科技（泰兴）有限公司布局全国具有国家布局，着眼于世界。它在全国各地建立了许多清洁技术展览服务中心，配备了各种清洁设备和各种成熟的清洁程序；逐步建立了全国性的工业零件清洗服务网络。该公司的产品和解决方案广泛应用于电子半导体，汽车零部件，医疗设备，航空航天和军事零件，精密零件等领域，致力于成为工业精密清洁设备领域的领导者。

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