真空卷绕腔室
发布时间：
2024/01/15 20:45
真空镀膜设备能镀很多工件和基材，可镀制硬件，也可镀制软性基材，一般镀制硬件都用单体机或者连续线，镀制柔性基材就采用卷绕镀膜设备，目前市面比较热门的电子铜箔就是采用卷绕真空镀膜设备在PET双面镀制铜箔，以达到所需指标。
成立于2006年8月，致力于研发、生产和销售各类光学镀膜设备、功能性薄膜涂层设备、装饰涂层设备、卷绕镀膜设备、汽车零部件镀膜设备、连续式磁控溅射镀膜生产线、超高真空系统等真空设备、半导体设备、电子生产设备、光电设备、光伏设备、动力电池设备及产品相关配件。经过多年技术发展和经验积累，具备了完整的真空镀膜设备研发、制造能力以及镀膜工艺开发能力，开发出应用锂电负极集流体材料的超薄复合铜箔PVD镀膜设备。
目前的燃料电池连续式涂层生产线已经交付。该系统可以同时从基板两侧以生产方式进行涂层，而基板本身无需旋转。涂层工艺腔室可以始终保证在洁净和非常稳定的真空条件下运行。
这个名称源于在磁控溅射沉积过程中使用磁场来控制带电离子粒子的行为。该过程需要一个高真空室来为溅射创造一个低压环境。首先将包含等离子体的气体（通常为氩气）进入腔室。在阴极和阳极之间施加高负电压以启动惰性气体的电离。来自等离子体的正氩离子与带负电的靶材碰撞。高能粒子的每次碰撞都会导致目标表面（靶）的原子喷射到真空环境中并推进到基板表面上。强磁场通过将电子限制在目标表面（靶）附近、增加沉积速率并防止离子轰击对基板的损坏来产生高等离子体密度。大多数材料都可以作为溅射工艺的靶材，因为磁控溅射系统不需要熔化或蒸发源材料。
公开资料显示，是一家以真空镀膜设备研发、生产、销售及其技术服务为主的真空应用解决方案供应商，主要产品或服务为真空镀膜设备以及配套的工艺服务支持。经过多年技术发展和经验积累，发行人具备了完整的真空镀膜设备研发、制造能力以及镀膜工艺开发能力，可为不同行业客户提供定制化、专业化的真空镀膜设备及其工艺解决方案。2021年8月，发行人被授予第三批称号。公司以真空镀膜技术及成膜工艺为核心，长期致力于溅射镀膜技术、蒸发镀膜技术、离子镀膜技术、柔性卷绕镀膜技术以及成膜工艺的研究和应用。
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